四氟化锗检测

四氟化锗

理化性质用途合成方法中文名称中文同义词英文名称英文同义词CAS号分子式分子量EINECS号相关类别Mol文件结构式

四氟化锗

氟化锗(IV);四氟化鍺;氟化锗;四氟化锗

GERMANIUM(IV) FLUORIDE

GERMANIUM TETRAFLUORIDE;GeF4;Germane, tetrafluoro-;tetrafluoro-german;tetrafluorogermane;GERMANIUM(IV) FLUORIDE, 99.9+%, ELECTRON IC GRADE;GERMANIUM(IV) FLUORIDE CYL. WITH 50 G;Germanium(IV) tetrafluoride

7783-58-6

F4Ge

148.63

232-011-3

金属有机物;半导体制程材料;化工原料;Inorganic Fluorides

7783-58-6.mol

四氟化锗 性质

熔点沸点密度溶解度形态比重颜色水溶解性水解敏感性MerckCAS 数据库EPA化学物质信息

−36.5 °C(lit.)

-36,5°C

2.126 g/mL at 0 °C(lit.)

与H2O反应

无色气体

2.126

无色

soluble H2O [CRC10]

8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents

13,4423

7783-58-6(CAS DataBase Reference)

Germane, tetrafluoro- (7783-58-6)

四氟化锗 用途与合成方法

理化性质四氟化锗（GeF4）是一种锗的氟化物，分子量为148.63，无色、辛辣大蒜气味气体，空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定，在水中发生水解，生成GeO2和H2GeF6。3GeF4+2H2O→GeO2+2H2GeF6。与无水氯化铝反应，交换了卤素之后生成四氯化锗。完全干燥的四氟化锗气体，不侵蚀玻璃，但能腐蚀汞和润滑脂。四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。用途四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。四氟化锗在化学工业中还可用于合成剂。合成方法(1)把氧化锗与过量的氟化钙及浓硫酸加热。 (2)六氟锗酸钡的热分解。 BaGeF6→BaF2+GeF4 把生成的气体用液体二硫化碳冷却到-112℃，除去挥发性杂质。用途 近来，已结合乙硅烷气体将四氟化锗用于直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。锗和硅纳米晶体可发出强烈的可见光，因其在光电器件中的潜在应用价值而倍受关注。