不用光刻机就攻克7nm工艺？中芯国际回应

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为国内*大也是*先进的半导体制造公司，中芯国际在先进工艺上的进展引人关注，其中7nm及以下节点非常重要，这还牵涉到EUV光刻机。

日前有股民在互动平台上询问，称有报道指出中芯国际不用EUV光刻就攻克了类7nm工艺，要求中芯国际澄清。

对此，中芯国际表示，公司不针对传言进行评论。

从中芯国际官网的介绍来看，该公司提到的*先进工艺还是14nm，接下来的是N+1、N+2工艺，但没有指明具体的工艺节点。

中芯国际联合CEO赵海军曾表示，经过三年的积累，FinFET工艺已经取得了不错的成绩，N+1已经进入了风险量产，但是在外部因素的影响下，去年四季度起FinFET的产能利用率不足，爬坡需要时间，营收奉献尚未达到预期水准，折旧又对公司整体的盈利造成了负担。

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