Metrology parameter determination and metrology re

作者：JAVAHERI, NARJES | HAJIAHMADI, MOHAMMADREZA | ZWIER, OLGER VICTOR | SANGUINETTI, GONZALO ROBERTO

申请者：ASML NETHERLANDS B V

发明人：JAVAHERI, NARJES | HAJIAHMADI, MOHAMMADREZA | ZWIER, OLGER VICTOR | SANGUINETTI, GONZALO ROBERTO 年：2022,

语种：英语

公开国家：TW 国家：中国台湾

专利申请号：TW107114625 专利申请日期：2018-04-30

公开(公告)号：TWI756417B 公开日期：2022-03-01

优先权号：US201762501047 | 2017US-62501047 | EP18152479 | 2018EP-0152479

分类号：G03F 7/20 20060101AFI20220301VHTW 国际主分类号：G03F 7/20 20060101AFI20220301VHTW 国际分类号：G03F-7/20 | G03F-1/42 CPC分类号：G03F-007/70633 | G01M-011/0264 | G03F-007/705 | G01M-011/00 | G03F-007/70625

法律状态：GRANTED

摘要： 本發明提供一種自一度量衡目標判定一圖案化程序參數之方法，該方法包括：自該度量衡目標獲得繞射輻射之複數個值，該複數個值中之每個值對應於對於該目標之照明輻射之複數個照明條件中之一不同照明條件;以及使用值之組合以判定用於該目標之該圖案化程序參數之一相同值。 | A method of determining a patterning process parameter from a metrology target, the method comprising: obtaining from the metrology target a plurality of values of scattered radiation, each value of the plurality of values corresponding to a different illumination condition of a plurality of illumination conditions for illumination radiation of the target;